TOP
0
0
【簡體曬書區】 單本79折,5本7折,活動好評延長至5/31,趕緊把握這一波!

縮小範圍


商品類型


簡體書 (1)

商品狀況


可訂購商品 (1)

庫存狀況


無庫存 (1)

商品定價


$800以上 (1)

出版日期


2022~2023 (1)

裝訂方式


精裝 (1)

作者


(德)安德里亞斯‧愛德曼 (1)

出版社/品牌


化學工業出版社 (1)

三民網路書店 / 搜尋結果

1筆商品,1/1頁
半導體先進光刻理論與技術(簡體書)
滿額折

1.半導體先進光刻理論與技術(簡體書)

作者:(德)安德里亞斯‧愛德曼  出版社:化學工業出版社  出版日:2023/08/01 裝訂:精裝
本書是半導體先進光刻領域的綜合性著作,介紹了當前主流的光學光刻、先進的極紫外光刻以及下一代光刻技術。主要內容涵蓋了光刻理論、工藝、材料、設備、關鍵部件、分辨率增強、建模與仿真、典型物理與化學效應等,包括光刻技術的前沿進展,還總結了極紫外光刻的特點、存在問題與發展方向。書中融入了作者對光刻技術的寶貴理解與認識,是作者多年科研與教學經驗的結晶。 本書適合從事光刻技術研究與應用的科研與工程技術人員閱讀,可作為高等院校、科研院所相關領域的科研人員、教師、研究生的參考書,也可作為微電子、光學工程、微納加工、材料工程等專業本科生的參考教材,還可為芯片製造領域的科技工作者與管理人員提供參考。
定價:1188 元, 優惠價:87 1034
海外經銷商無庫存,到貨日平均30天至45天

暢銷榜

客服中心

收藏

會員專區