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半導體先進光刻理論與技術（簡體書）
- ISBN13：9787122432766
- 出版社：化學工業出版社
- 作者：(德)安德里亞斯‧愛德曼
- 譯者：李思坤
- 裝訂／頁數：精裝／304頁
- 規格：24cm*17cm (高/寬)
- 出版日：2023/08/01
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商品簡介
商品簡介
本書是半導體先進光刻領域的綜合性著作，介紹了當前主流的光學光刻、先進的極紫外光刻以及下一代光刻技術。主要內容涵蓋了光刻理論、工藝、材料、設備、關鍵部件、分辨率增強、建模與仿真、典型物理與化學效應等，包括光刻技術的前沿進展，還總結了極紫外光刻的特點、存在問題與發展方向。書中融入了作者對光刻技術的寶貴理解與認識，是作者多年科研與教學經驗的結晶。
本書適合從事光刻技術研究與應用的科研與工程技術人員閱讀，可作為高等院校、科研院所相關領域的科研人員、教師、研究生的參考書，也可作為微電子、光學工程、微納加工、材料工程等專業本科生的參考教材，還可為芯片製造領域的科技工作者與管理人員提供參考。
本書適合從事光刻技術研究與應用的科研與工程技術人員閱讀，可作為高等院校、科研院所相關領域的科研人員、教師、研究生的參考書，也可作為微電子、光學工程、微納加工、材料工程等專業本科生的參考教材，還可為芯片製造領域的科技工作者與管理人員提供參考。
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