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本書的內容主要聚焦於二次電子發射的理論模型和相關應用方面，在部分章節列舉了幾個典型案例展開討論。本書的內容涵蓋了二次電子的發射理論模型、測量、數據結果、表面工藝、介質帶電分析以及典型應用場景介紹。內容涉及粒子物理理論、仿真算法、磁流體力學、表面工藝、表面表徵等多領域。本書共分為六章，其中，第1章為緒論，介紹了二次電子發射和與此相關的介質帶電概念和現狀。第2章中主要介紹了四種主要的二次電子發射模型，以及分別針對導電金屬和導電不良體的介質研製的測試平臺，除此之外，還列出了部分典型金屬和介質材料的二次電子發射數據。第3童介紹了常用的二次電子發射去面調控技術。列舉了幾種用幹抽制二次電子發射的去面陷阱結構和用於表面調控的材料工藝。第4章介紹了電子轟擊表面的帶電效應和二次電子發射在帶電狀態下的動態特性。第5章簡要敘述了電子襲擊對材料的影響。第6章講述了二次電子發射在微波部件微放電和電子顯微成像領域的應用，並展開了相關分析。 本書內容基礎性，探索性強，涉及了我國航天器大功率二次電子倍增相關基礎科學制域的重點問題。本書的出版可為我國重大工程項目的研發、設計，以及多領城學科的發展提供參考。同時，也可以作為相關專業本科生和研究生的參考教材。