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商品簡介
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《半導體製造過程的批間控制和性能監控》基於當前半導體行業製造過程中存在的問題，介紹了多種改進的批間控制和過程監控算法及其性能。第1章為半導體製造過程概述，包括國內外研究現狀和發展趨勢。第2、3章介紹批間控制、控制性能和製造過程監控。第4～7章討論機台干擾、故障、度量時延對系統性能的影響，提出多種批間控制衍生算法，包括雙產品制程的EWMA批間控制算法、變折扣因子EWMA批間控制算法、偏移補償批間控制算法、基於T-S模糊模型的批間控制算法。第8～11章介紹半導體製造過程的性能和過程監控方法，包括：設計模型評價指標進行建模質量評估；提出基於時間序列模型的批間控制系統過程監控方法，進一步提出二維動態批次過程的建模和穩定性評價指標；提出基於數據的故障預測方法。
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