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半導體幹法刻蝕技術：原子層工藝（簡體書）
- 系列名：集成電路科學與工程叢書
- ISBN13：9787111734260
- 出版社：機械工業出版社
- 作者：(美)索斯藤‧萊爾
- 裝訂／頁數：平裝／225頁
- 規格：24cm*17cm (高/寬)
- 版次：一版
- 出版日：2023/09/25
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商品簡介
商品簡介
本書主要內容有：熱刻蝕、熱各向同性ALE、自由基刻蝕、定向ALE、反應離子刻蝕、離子束刻蝕等，探討了尚未從研究轉向半導體製造的新興刻蝕技術，涵蓋了定向和各向同性ALE的最新研究和進展。本書以特定的刻蝕應用作為所討論機制的示例，例如柵極刻蝕、接觸孔刻蝕或3D NAND通道孔刻蝕，有助於對所有幹法刻蝕技術的原子層次理解。
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