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近代物理實驗(簡體書)
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近代物理實驗(簡體書)

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商品簡介
目次

商品簡介

本書是作者在多年教學經驗的基礎上,結合教學改革的新成果編寫而成。內容包括原子物理、核物理、激光和光學實驗、微波和磁共振實驗、磁學實驗、半導體實驗、真空鍍膜技術、電子衍射實驗、低溫物理實驗和鐵電材料實驗十個單元41個實驗。為了反映物理知識的發展以閱讀鏈接和擴展實驗的形式對一些章節的內容進行了完善。本書適合普通高等院校理工科學生使用,也可作為教師和相關工作人員參考用書。

目次

前言
第1章 原子物理實驗
1.1 氫原子光譜
1.2 塞曼效應
1.3 弗蘭克一赫茲實驗
1.4 密立根油滴實驗

第2章 核物理實驗
2.0 核物理實驗基礎知識
2.1 核衰變的統計規律
2.2 丁射線能譜測量

第3章 激光和光學實驗
3.1 全息照相
3.2 全息干涉計量
3.3 彩虹全息
3.4 晶體的電光效應及電光調制
3.5 普朗克常量的光電效應法測定
3.6 光電器件的光譜靈敏度
3.7 橢偏法測薄膜厚度和折射率
3.8 光拍頻法測量光速

第4章 微波和磁共振實驗
4.0 微波基礎知識
4.1 微波分光實驗
4.2 微波順磁共振
4.3 鐵磁共振
4.4 核磁共振
4.5 脈沖核磁共振
4.6 光泵磁共振

第5章 磁學實驗
5.0 磁化率及磁性物質的分類
5.1 弱磁性物質磁化率的測量
5.2 法拉第效應實驗
5.3 磁疇的靜態特性參數測量
5.4 法拉第效應法觀測磁晶各向異性
5.5 龐磁電阻材料電阻率和磁電阻的溫度特性測量
5.6 溶膠-凝膠法制備粉體材料

第6章 半導體實驗
6.1 半導體霍爾系數與電導率的測量
6.2 CU法測量Si-SiO2界面態和半導體摻雜濃度
6.3 用化學氣相沉積法制備半導體薄膜

第7章 真空鍍膜技術
7.1 真空的獲得與測量
7.2 真空鍍膜
7.3 射頻濺射法制備SiSiO2薄膜
7.4 磁控濺射法制備磁性多層膜

第8章 電子衍射和X射線衍射
8.1 電子衍射
8.2 晶體缺陷的研究
8.3 X射線衍射技術
8.4 掃描隧道顯微鏡

第9章 低溫物理實驗
9.1 超導材料的電磁特性
9.2 Bi2Sr2CaCu2O(Bi2212)高溫超導單晶生長及表征

第10章 鐵電材料實驗
10.0 鐵電材料基礎知識
10.1 鐵電材料電滯回線的測量
10.2 固相反應法制備鐵電材料

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