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Edited by Suryadevara V. Babu 、Kenneth C. Cadien 、Hiroyuki Yano (1)

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Chemical-Mechanical Polishing 2001 – Advances and Future Challenges:VOLUME671
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1.Chemical-Mechanical Polishing 2001 – Advances and Future Challenges:VOLUME671

作者:Edited by Suryadevara V. Babu ; Kenneth C. Cadien ; Hiroyuki Yano  出版社:CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS  出版日:2001/12/14 裝訂:平裝
Papers from an April 2001 symposium describe recent advances in the practice of chemical-mechanical polishing (CMP) and in modeling the interactions that occur between the wafer surface and the pad an
定價:1665 元, 優惠價:9 1499
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