真空技術與應用
- ISBN13:9789570286762
- 出版社:行政院國家科學委員會精密儀器發展中心
- 作者:伍秀菁; 汪若文; 林美吟
- 裝訂/頁數:平裝/680頁
- 規格:26cm*19cm*3.5cm (高/寬/厚)
- 版次:1
- 出版日:2001/07/01
商品簡介
本中心成立以來,即致力於真空技術的研究與開發,在真空系統、真空幫浦、真空鍍膜與真空檢校等領域皆累積了豐厚的技術能量。鑑於真空技術在科學硏究與產業發展上的重要性,且落實科技書籍中文化,便利民眾閱讀,亦為本中心的重要工作之一,因此,繼八十七年推出「儀器總覽」獲得熱烈回響及肯定後,乃積極籌劃出版涵括真空技術理論基礎與應用實務的書籍一「真空技術與應用」。
本書共有二十四章,概分為基礎及實務二篇。基礎篇探討真空技術的理論及真空元組件等,內容包括真空技術的基礎理論、各式真空幫浦的介紹、各類真空元件及材料、真空系統的設計組裝、真空測漏,以及真空度量與檢校等;實務篇則介紹真空技術的應用,內容包括真空技術在各種鍍膜技術、製程系統及學科領域的應用與需求。
本書的編纂從籌編到出版歷時三年,邀集了產、學界五十餘位專家共同執筆撰寫,在此謹對所有參與策劃、審稿的委員及撰稿的專家學者特致謝忱,由於他們的鼎力協助,本書方能順利付梓。希冀藉由本書的出版,能促進國內真空技術的精進,進而帶動相關科學硏究的發展與產業技術的升級。本書内容如tl疏漏之處,冀望讀者先進不吝指正,俾供未來修訂增補時之參考。
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