微納米加工技術及其應用(第三版)（簡體書）

《微納米加工技術及其應用（第3版）》集作者多年來的實踐經驗與研究成果，並結合近年來國際上的最新發展，綜合介紹微納米加工技術的基礎，包括光學曝光技術、電子束曝光技術、聚焦離子束加工技術、掃描探針加工技術、微納米尺度的複製技術、各種沉積法與刻蝕法圖形轉移技術、間接納米加工技術與自組裝納米加工技術。對各種加工技術的介紹著重講清原理，列舉基本的工藝步驟，說明各種工藝條件的由來，並注意給出典型工藝參數；充分分析各種技術的優缺點及在應用過程中的注意事項；以大量圖表與實例說明各種加工方法，避免煩瑣的數學分析；並以專門一章介紹微納米加工技術在現代高新技術領域的應用，包括超大規模集成電路技術、納米電子技術、光電子技術、高密度磁存儲技術、微機電系統技術、生物芯片技術和納米技術。通過應用實例說明現代高新技術與微納米加工技術的不可分割的關係，並演示如何靈活應用微納米加工技術來推動這些領域的技術進步。
與國內外同類出版物的相比，《微納米加工技術及其應用（第3版）》的顯著特點是將用於超大規模集成電路生產、用於微機電系統製造與用於納米技術研究的微納米加工技術綜合介紹，並加以比較。首次將微納米加工歸納為平面工藝、探針工藝和模型工藝三種主要類型，突出了微納米加工與傳統加工技術的不同之處。全書既注重基礎知識又兼顧微納米加工領域近年來的最新進展，並列舉大量參考文獻與互聯網鏈接網址，供進一步發掘詳細信息與深入研究。因此不論是對初次涉足這一領域的大專院校的本科生或研究生，還是對已經有一定工作經驗的專業科技人員，都具有很好的參考價值。

崔錚，東南大學（原南京工學院）本科畢業（1981年），並獲該校碩士（1984年）和博士（1988年）學位。1989年受英國科學與工程研究委員會訪問研究基金全額資助（SERCVisitingFellowship），到英國劍橋大學微電子研究中心做博士後研究。1993年到英國盧瑟福國家實驗室微結構中心做高級研究員。1999年起任英國盧瑟福國家實驗室微結構中心首席科學家（PrincipalScientist）以及微系統技術中心負責人（GroupLeader）。在英國工作的20年中，先後參加和主持各種科研項目25項，其中lO項為項目首席科學家。2004年當選為英國工程技術學會（IET）會士（Fellow）。先後獨立與合作發表學術論文190餘篇。2005年出版中文專著《微納米加工技術及其應用》（高等教育出版社），2006年出版該書的英文版《Micro-NanofabricationTechnologiesandApplications》（高等教育出版社，Springer），2008年出版英文專著《Nanofabrication：Principles.CapabilitiesandLimits》（Springer），2009年出版《微納米加工技術及其應用》（第二版）（高等教育出版社）。自1994年以來開始與國內開展合作，先後受聘為國內多家科研單位與大學的客座研究員、客座教授。2002年受聘為中國科學院海外評審專家。2004年獲中國科學院海外傑出學者（B類）基金。2007年參加中國科學院物理研究所納米電子材料與器件海外合作團隊。2009年9月入選中共中央組織部第二批“千人計劃”（創新類），10月全職回國到中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所工作，創立了國內首個印刷電子技術研究中心。2011年1月創立蘇州納格光電科技有限公司，致力於將印刷電子技術推向產業化。2012年3月，領銜印刷電子技術研究中心科研團隊集體編著了中國第一本印刷電子學方面的專著《印刷電子學：材料、技術及其應用》（高等教育出版社）。目前擔任中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所印刷電子學研究部主任。

崔錚編寫的《微納米加工技術及其應用(第3版)》是一本全面介紹微納米加工技術基礎與國外最新發展的讀物。全書共分11章，內容包括：光學曝光技術，電子束曝光技術，聚焦離子束加工技術，掃描探針加工技術，復制技術，沉積法圖形轉移技術，刻蝕法圖形轉移技術，間接納米加工技術，自組裝納米加工技術，微納米加工技術的應用等。

第1章緒論
1.1微納米技術與微納米加工技術
1.2微納米加工的基本過程與分類
1.3本書的內容與結構
參考文獻

第2章光學曝光技術
2.1引言
2.2光學曝光方式與原理
2.2.1掩模對準式曝光
2.2.2投影式曝光
2.3光學曝光的工藝過程
2.4光刻膠的特性
2.4.1光刻膠的一般特性
2.4.2正型光刻膠與負型光刻膠的比較
2.4.3化學放大膠
2.4.4特殊光刻膠
2.5光學掩模的設計與製作
2.6短波長曝光技術
2.6.1深紫外曝光技術
2.6.2極紫外曝光技術
2.6.3X射線曝光技術
2.7大數值孔徑與浸沒式曝光技術
2.8光學曝光分辨率增強技術
2.8.1離軸照明技術
2.8.2空間濾波技術
2.8.3移相掩模技術
2.8.4光學鄰近效應校正技術
2.8.5面向製造的掩模設計技術
2.8.6光刻膠及其工藝技術
2.8.7二重曝光與加工技術
2.9光學曝光的計算機模擬技術
2.9.1部分相干光成像理論
2.9.2計算機模擬軟件COMPARE
2.9.3光學曝光質量的比較
2.10其他光學曝光技術
2.10.1近場光學曝光技術
2.10.2干涉光學曝光技術
2.10.3無掩模光學曝光技術
2.10.4激光三維微成型技術
2.10.5灰度曝光技術
2.11厚膠曝光技術
2.11.1傳統光刻膠
2.11.2SU-8光刻膠
2.12LIGA技術
2.12.1用於LIGA的X射線光源
2.12.2X射線LIGA掩模
2.12.3用於X射線LIGA的厚膠及其工藝
2.12.4影響X射線LIGA圖形精度的因素
參考文獻

第3章電子束曝光技術
3.1引言
3.2電子光學原理
3.2.1電子透鏡
3.2.2電子槍
3.2.3電子光學像差
3.3電子束曝光系統
3.4電子束曝光圖形的設計與數據格式
3.4.1設計中的注意事項
3.4.2中間數據格式
3.4.3AutoCAD數據格式
……

第4章聚焦離子束加工技術
第5章掃描探針加工技術
第6章複製技術
第7章沉積法圖形轉移技術
第8章刻蝕法圖形轉移技術
第9章間接納米加工技術
第10章自組裝納米加工技術
第11章微納米加工技術的應用