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$600~$799 (1)

出版日期


2018~2019 (1)

裝訂方式


平裝 (1)

作者


(美)加里‧塞特爾 (1)

出版社/品牌


國防工業出版社 (1)

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紋影與陰影技術:透明介質中的可視化現象(簡體書)
滿額折

1.紋影與陰影技術:透明介質中的可視化現象(簡體書)

作者:(美)加里‧塞特爾  出版社:國防工業出版社  出版日:2018/08/31 裝訂:平裝
本書回顧了紋影與陰影技術的發展歷史,闡述了相關的基本概念,從經典的Toepler紋影技術入手,引入典型的系統參數及其分析方法;介紹了大視場與聚焦紋影方法,以及彩色紋影、立體紋影和紋影干涉等特種紋影技術;針對陰影技術進行了詳細介紹;介紹了直接、聚焦和特殊陰影成像技術;結合實際應用,介紹了紋影與陰影光學組件、系統構建和成像方法等具體實驗的實施;介紹了紋影與陰影技術在生產生活各個領域內的具體應用;對分光法、柵格刀口方法、圖像測速和定量陰影等定量評價方法進行了介紹;總結並展望了紋影與陰影技術發展的未來。
定價:708 元, 優惠價:87 616
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